MVMD-ARMA残差修正电离层预测模型的研究及应用

作     者：毛文飞 邹自力 邹历 闵曹文 MAO Wenfei;ZOU Zili;ZOU Li;MIN Caowen

作者机构：东华理工大学测绘工程学院南昌330013 流域生态与地理环境监测国家测绘地理信息局重点实验室南昌330013 南昌市城市规划设计研究总院南昌330038 

基　　金：国家自然科学基金项目(41504025) 江西省自然科学基金项目(20161BAB213087) 

出 版 物：《测绘科学》 (Science of Surveying and Mapping)

年 卷 期：2019年第44卷第4期

页      码：33-40页

摘      要：针对变分模态分解端点效应处理方法的缺陷和分解过程中需要人为地控制输入参数,会严重影响预测结果,且ARMA模型本身在极值点附近预测精度就不高的问题,该文提出了MVMD-ARMA残差修正电离层预测模型,加强对分解时端点效应的控制,并通过阈值条件,自动选取最优参数,且对预测结果进行了残差修正。实验结果表明,改进模型的绝对残差均值为0.95TECU,分别比ARMA模型和VMD-ARMA模型小0.20TECU和0.11TECU;残差标准差均值为0.67,分别比ARMA模型和VMD-ARMA模型小0.17和0.09;平均相对精度的均值为88.64%,分别比ARMA模型和VMD-ARMA模型高2.56%和2.23%。

主 题 词：变分模态分解 ARMA 残差修正 电离层TEC 预测 

学科分类：081802[081802] 08[工学] 081105[081105] 0818[工学-交通运输类] 0804[工学-材料学] 0811[工学-水利类] 

核心收录：

D　O　I：10.16251/j.cnki.1009-2307.2019.04.006

馆 藏 号：203607197...