EVG展出最新掩模对准曝光机EV6200 INFINITY

作     者：刘林发 

出 版 物：《电子与封装》 (Electronics & Packaging)

年 卷 期：2005年第5卷第4期

页      码：46-47页

摘      要：在晶圆键合光刻设备领域领先的EVG近日在SEMICON China 2005展出了其最新的EVG6200 Infinity掩模对准曝光机，该机可以在近距离对很厚的整个阻光层近距离曝光，是针对先进的封装市场而设计的，它可以通过升级安装底部显微镜，用于MEMS的双面曝光。在市场上所有200mm掩模对准曝光机中，这种新的曝光机是而积最小、产量最高的，光刻间隙的设定也是最精确的。

主 题 词：INFINITY 曝光机 掩模 Infinity SEMICON China 光刻设备 升级安装 MEMS 近距离 阻光层 显微镜 市场 晶圆 封装 

学科分类：080903[080903] 1305[艺术学-设计学类] 13[艺术学] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.16257/j.cnki.1681-1070.2005.04.025

馆 藏 号：203617395...