聚丙烯核孔膜化学蚀刻工艺研究

作     者：孙志国 张泉荣 何向明 严玉顺 SUN Zhiguo;ZHANG Quanrong;HE Xianming;YAN Yushun

作者机构：清华大学核能技术设计研究院北京102201 

出 版 物：《核技术》 (Nuclear Techniques)

年 卷 期：2002年第25卷第1期

页      码：36-40页

摘      要：探讨了蚀刻剂中重铬酸钾浓度、硫酸浓度及蚀刻温度、蚀刻时间等因素对聚丙烯膜基体蚀刻速率的影响 ;建立了基体蚀刻速率与重铬酸钾浓度、硫酸浓度、蚀刻温度的数学关联式 ;并选择一定的蚀刻条件对辐照过的聚丙烯膜进行蚀刻 ,得到了预期孔径的聚丙烯核孔膜。

主 题 词：核孔膜 聚丙烯 基体蚀刻速率 化学蚀刻工艺 蚀刻剂 塑料薄膜 重离子照射 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:0253-3219.2002.01.008

馆 藏 号：203617803...