减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制

作     者：李芳 林永昌 

作者机构：北京理工大学光电工程系北京100081 

出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)

年 卷 期：2001年第27卷第5期

页      码：406-407页

摘      要：金属膜具有复折射率N =n -ik ,同时又具有金属的导电特性。采用含有一层金属Cu的膜系代替原有的ITO透明导电膜来制作应用于CMT的减反、防静电、抗电磁辐射膜。经过理论分析 ,计算机辅助设计 ,最后进行实验验证 ,提出了一种全新的制作减反、防静电、抗电磁辐射膜的方法。

主 题 词：减反 防静电 抗电磁辐射 CMT 金属膜 研制 铜 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1002-1582.2001.05.029

馆 藏 号：203627889...