不同磁场方向作用下电沉积工艺参数对镀镍层性能影响

作     者：苗斌 贾卫平 吴蒙华 MIAO Bin;JIA Wei-ping;WU Meng-hua

作者机构：大连大学机械工程学院辽宁大连116622 

基　　金：国家自然科学基金项目(50975034) 辽宁省科技计划项目(2010223006) 

出 版 物：《机械设计与制造》 (Machinery Design & Manufacture)

年 卷 期：2013年第7期

页      码：144-146页

摘      要：为优化电沉积镀镍工艺,通过两组正交实验,分别确定在垂直方向磁场和平行方向磁场作用下各工艺参数对镀镍层的显微硬度、晶粒尺寸和表面形貌的影响作用。分析结果发现,磁场不是决定电沉积工艺的主导影响因素,电流密度和超声功率对电沉积的影响作用较大,平行磁场相较于垂直磁场更有利于镀层晶粒的生长,最后找出最佳电沉积工艺参数为:电流密度2A/dm2、超声功率240W、平行磁场方向、磁感应强度0.6T、占空比20%,并分析形成这种结果可能的机理。

主 题 词：磁场 电沉积 显微硬度 晶粒尺寸 表面形貌 

学科分类：12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程类] 08[工学] 0802[工学-机械学] 080201[080201] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-3997.2013.07.046

馆 藏 号：203642827...