二次曲线拟合实现红外图像非均匀性校正

作     者：徐文文 周建勇 唐遵烈 蒋志伟 XU Wen-wen;ZHOU Jian-yong;TANG Zun-lie;JIANG Zhi-wei

作者机构：重庆邮电大学光电工程学院重庆400065 重庆光电技术研究所重庆400060 

出 版 物：《半导体光电》 (Semiconductor Optoelectronics)

年 卷 期：2009年第30卷第5期

页      码：763-766页

摘      要：根据实验数据描绘出红外焦平面阵列探测器随温度变化的平均响应曲线。在分析平均响应曲线特性的基础上,介绍了传统的二次曲线拟合算法的基本原理,提出了简化的二次曲线拟合算法。并采用此方法完成了以ARM处理器和FPGA为核心的红外焦平面阵列实时非均匀性校正系统的硬件设计,其结构比较简单,实现过程较容易,校正效果理想。

主 题 词：响应曲线 二次曲线 拟合 非均匀性 

学科分类：0808[工学-自动化类] 080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.16818/j.issn1001-5868.2009.05.033

馆 藏 号：203647929...