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金刚石膜气相沉淀技术中微波等离子体反应腔的数值模拟

金刚石膜气相沉淀技术中微波等离子体反应腔的数值模拟

作     者:邹卫东 杨磊 孙亦宁 杨孔庆 

作者机构:兰州大学物理系甘肃兰州730000 兰州物理研究所甘肃兰州730000 

出 版 物:《真空与低温》 (Vacuum and Cryogenics)

年 卷 期:2000年第6卷第2期

页      码:86-90页

摘      要:采用有限积分法(FIT算法) ,并利用一种简单的等离子体模型模拟了具有轴对称的微波等离子体反应腔中微波场与等离子体的行为。计算出了给定等离子体的空间分布时电场的分布情况 ,以及给定电场的空间分布时等离子体的分布情况 ,从而得到微波———等离子体反应腔中电磁场稳定分布以及等离子体的放电位置。并依据实验中的一些可变参数 ,寻求影响等离子体放电位置的参数 ,为设计化学气相沉淀(CVD)

主 题 词:数值模拟 等离子体 微波反应腔 金刚石薄膜 CVD 

学科分类:081704[081704] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 070301[070301] 

馆 藏 号:203657852...

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