非零色散位移光纤的改进设计及制造

作     者：吴金东 吴兴坤 卢卫民 吴海港 张立永 黄晓鹏 Wu Jindong;Wu Xingkun;Lu Weimin;Wu Haigang;Zhang Liyong;Huang Xiaopeng

作者机构：浙江大学现代光学仪器国家重点实验室浙江杭州310027 浙江富通光纤技术有限公司浙江富阳311422 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2009年第29卷第10期

页      码：2692-2697页

摘      要：介绍了一种新颖的非零色散位移光纤结构设计方法及其MCVD+OVD制造工艺,所制备的光纤有效面积达到71μm2以上。采用关键结构区域精确微扰方法,改进了光纤的色散特性,1550nm处色散斜率由0.0715ps/(***),分别减小至0.0605ps/(***),0.0466ps/(***),零色散波长由1500nm附近移至1450nm以下。测量表明,所得光纤具有优越的光学传输特性、抗弯曲性能和熔接性能,适用于C+L和S+C+L工作波长的大容量高速率长距离密集波分复用系统。光纤关键结构区域精确微扰是改进光纤性能的一种有效方法,该方法不限于MCVD工艺和非零色散位移光纤,对新型光纤的设计和生产具有积极的指导意义。

主 题 词：光纤光学 非零色散位移光纤 结构区域微扰 色散斜率 大有效面积 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/aos20092910.2692

馆 藏 号：203663961...