硅烷偶联剂在二氧化硅基片表面吸附膜的形貌

作     者：蔡楚江 沈志刚 邢玉山 麻树林 CAI Chujiang;SHEN Zhigang;XING Yushan;MA Shulin

作者机构：北京航空航天大学北京市粉体技术研究开发重点实验室北京100083 

基　　金：国家自然科学基金50474001 北京市教育委员会共建项目建设计划SYS10006041资助项目.~~ 

出 版 物：《材料研究学报》 (Chinese Journal of Materials Research)

年 卷 期：2007年第21卷第3期

页      码：261-266页

摘      要：使用原子力显微镜(AFM)观测了吸附在二氧化硅基片表面的硅烷偶联剂薄膜的形貌．结果表明,在气相法吸附过程中偶联剂是以分子形态吸附在基片表面,而在液相法吸附过程中偶联剂是以分子聚合体的形态吸附在基片表面,因此通过气相法吸附在基片表面的吸附膜比通过液相法吸附在基片表面的吸附膜光滑．硅烷偶联剂在二氧化硅基片表面有化学吸附和物理吸附两种模式,吸附了硅烷偶联剂薄膜的基片表面呈现出一定的疏水性．

主 题 词：有机高分子材料 硅烷偶联剂 气相法 吸附 原子力显微镜 

学科分类：07[理学] 070305[070305] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1005-3093.2007.03.008

馆 藏 号：203671053...