Ni含量对FeCoNiB软磁薄膜微波电磁性能的影响

作     者：邱景 龚荣洲 冯则坤 聂彦 王鲜 QIU Jing;GONG Rong-zhou;FENG Ze-kun;NIE Yan;WANG Xian

作者机构：华中科技大学电子科学与技术系湖北武汉430074 

基　　金：高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(20090142110004) 

出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)

年 卷 期：2011年第42卷第1期

页      码：116-119页

摘      要：为了改良磁性材料的高频电磁性能,采用射频磁控溅射工艺制备了一系列FeCoB和FeCoNiB磁性薄膜。研究了Ni元素的引入对材料微结构和电磁性能的影响。结果表明,适量的Ni添加量有利于获得优良的微波电磁性能,这主要归因于B在晶粒边界的析出。制备的厚度约为200nm薄膜样品在GHz频段下同时具有高饱和磁化强度4πMs=2.212T,高铁磁共振频率fFMR=3.16GHz,较高的电阻率ρ=276μΩ.cm,其磁导率实部μ 在0.5～2.9GHz频率范围内>200。该薄膜可应用于GHz频段下电磁器件的设计中。

主 题 词：磁性薄膜 微波电磁性能 复磁导率 电阻率 铁磁共振频率 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203679224...