基于动态曝光的激光光刻机的设计

作     者：殷庆纵 张宇峰 刘吉 YIN Qing-zong;ZHANG Yu-feng;LIU Ji

作者机构：苏州工业职业技术学院电子与通信工程系江苏苏州215104 苏州印象镭射有限公司江苏苏州215004 

基　　金：苏州市科技局计划项目(SYN201332) 

出 版 物：《测控技术》 (Measurement & Control Technology)

年 卷 期：2014年第33卷第10期

页      码：136-139页

摘      要：为了提高激光全息防伪技术,开发了以工业控制计算机为上位机、DSP TMS320F2812为下位机的高速光刻机.该光刻机采用动态曝光的工作方式,实现了高速高精度定位.解决了传统光刻机需要在静止的状态下完成曝光的工作模式,使光刻速度提高了20 ～ 30倍,提高了激光防伪商标母板制作的技术水平.

主 题 词：动态曝光 激光 光刻 光栅 3D图像 DSP FPGA 

学科分类：08[工学] 0802[工学-机械学] 0835[0835] 080201[080201] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-8829.2014.10.036

馆 藏 号：203689697...