真空阴极电弧离子源磁场分析与设计

作     者：蒋钊 唐德礼 陈庆川 周晖 肖更竭 郑军 马占吉 杨拉毛草 JIANG Zhao;TANG Deli;CHEN Qingchuan;ZHOU Hui;XIAO Gengjie;ZHENG Jun;MAZhanji;YANG Lamaocao

作者机构：兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室兰州730000 核工业西南物理研究院成都610041 

出 版 物：《真空与低温》 (Vacuum and Cryogenics)

年 卷 期：2019年第25卷第3期

页      码：194-201页

摘      要：真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。

主 题 词：真空阴极电弧离子源 电弧放电 弧斑 磁场 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1006-7086.2019.03.008

馆 藏 号：203691264...