氮化硅减反射膜制备工艺对组织结构及折射率影响的研究

作     者：高越 王宙 付传起 杨梓健 项永矿 Gao Yue;Wang Zhou;Fu Chuanqi;Yang Zijian;Xiang Yongkuang

作者机构：大连大学物理学院大连116622 大连大学机械工程学院大连116622 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2019年第39卷第6期

页      码：455-459页

摘      要：太阳能电池是一种清洁能源,近年来发展迅猛。减反射膜能大幅减少太阳能电池对光线的反射,从而提高电池光电转化率。为优化减反射效果,减反射膜设计多样,包括单层膜、双层膜、三层膜和多层膜,膜层不同对薄膜材料的折射率要求不同。氮化硅薄膜是一种优秀的硅基太阳能减反射膜,其折射率在1.78-2.5之间,调控范围广。本文采用脉冲激光沉积法制备氮化硅减反射膜,研究不同工艺参数对硅片上沉积的氮化硅薄膜性能的影响。

主 题 词：脉冲激光沉积 减反射 氮化硅薄膜 太阳能电池 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.13922/j.cnki.cjovst.2019.06.01

馆 藏 号：203691940...