结合傅里叶变换合成法设计均匀薄膜

作     者：朱华新 高劲松 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣明 申振峰 李香波 尹少辉 刘小涵 王珊珊 Zhu Huaxin;Gao Jinsong;Wang Xiaoyi;Wang Tongtong;Chen Hong;Zheng Xuanming;Shen Zhenfeng;Li Xiangbo;Yin Shaohui;Liu Xiaohan;Wang Shanshan

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 中国科学院研究生院北京100039 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2008年第28卷第12期

页      码：2436-2440页

摘      要：基于傅里叶变换合成法的基本原理,合成了一个K9基底上的负滤光片,合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性,但实际制备难度很大,因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜,由于实际薄膜材料种类有限,不能获得任意折射率膜层,鉴于两层高低折射率薄层可近似为一层中间折射率膜层的思想,将膜系转化成一个可实际制备的膜系结构:膜系采用ZrO2和SiO2两种膜料,膜层总数为183层,经单纯形调法优化后,膜层总厚度为7.09μm,通带和截止带内平均透射比分别为97.56%和3.13%,其结果优于直接采用傅里叶方法合成的非均匀膜系,与期望透射比曲线吻合更好。说明通过这种思想设计任意光谱特性的膜系是可行的,也使傅里叶变换合成法设计的薄膜实际制备成为可能。

主 题 词：光学薄膜 傅里叶变换合成法 均匀薄膜 单纯形调法 

学科分类：0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/AOS20082812.2436

馆 藏 号：203702156...