基于神经网络的AZO薄膜制备工艺参数的正交优化设计

作     者：范丽琴 Fan Liqin

作者机构：厦门工学院 

基　　金：福建省中青年教师教育科研项目(JAT170806) 

出 版 物：《化工新型材料》 (New Chemical Materials)

年 卷 期：2019年第47卷第7期

页      码：130-134页

摘      要：采用磁控溅射法制备AZO薄膜,研究和讨论了溅射功率、溅射时间和溅射气压3个工艺参数对AZO薄膜光学和电学性能的影响。采用正交优化设计,对3个工艺参数进行优化,测量了透射率和电阻率,以此作为薄膜光电性能的评价指标,通过极差值分析确定了制备薄膜的最佳工艺参数。影响薄膜透射率的最主要因素为溅射气压;影响电阻率的最主要因素为溅射时间。获得制备高透射率低电阻率的AZO薄膜的最佳工艺组合方案为溅射功率为400W、溅射时间为1000s、溅射气压为1.0Pa。将反馈型(BP)神经网络应用于磁控溅射AZO薄膜光学性能(可见光区的平均透射率)和电学性能(电阻率)的研究。输入样品数据对神经网络进行训练,建立AZO薄膜光电性能随溅射参数变化的预测模型。

主 题 词：正交设计 掺铝氧化锌 光电学性质 BP神经网络 

学科分类：07[理学] 08[工学] 070205[070205] 080501[080501] 080502[080502] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

馆 藏 号：203702554...