基于遗传算法的减反射膜的优化设计

作     者：吴素勇 龙兴武 

作者机构：国防科技大学光电科学与工程学院光电工程系湖南长沙410073 

出 版 物：《应用光学》 (Journal of Applied Optics)

年 卷 期：2008年第29卷第4期

页      码：542-547页

摘      要：为了研究膜系设计领域内的全局性优化方法,提出了基于遗传算法的膜系设计方法。编制了用遗传算法进行膜系设计的通用程序,并在各种类型的减反射膜设计中取得了成功。结果表明:基于遗传算法得到的减反射膜具有与近期发表的膜系结果相一致或更好的光谱性能和全局性。同时在应用遗传算法进行膜系设计时,不需要给定初始膜系,可以设定膜层厚度边界和膜层数,这对于设计和镀制有现实意义的光学薄膜极为有利,并且只要改变目标反射率就能推广到其他膜系的设计中,具有良好的可移植性。

主 题 词：薄膜 膜系设计 遗传算法 减反射膜 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1002-2082.2008.04.014

馆 藏 号：203717368...