含氟紫外纳米压印光刻胶的研制

作     者：赵彬 周伟民 张静 刘彦伯 王金合 张燕萍 施利毅 张剑平 

作者机构：上海大学理学院化学系上海200444 上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米核心技术实验室上海200237 

基　　金：上海市科委纳米专项基金资助项目(1052nm07500) 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2012年第49卷第7期

页      码：471-477页

摘      要：从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接触角数据预测了光刻胶的脱模能力。通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过实验数据筛选出了最佳配方。研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏附力,且具有良好的脱模能力。

主 题 词：紫外纳米压印 光刻胶 含氟助剂 接触角 脱模 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1671-4776.2012.07.009

馆 藏 号：203719228...