凹非球面检测的双计算全息图设计及制作

作     者：谢意 陈强 伍凡 邱传凯 侯溪 张晶 XIE Yi;CHEN Qiang;WU Fan;QIU Chuan-kai;HOU Xi;ZHANG Jing

作者机构：中国科学院光电技术研究所 

基　　金：国家973项目资助课题 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2008年第35卷第6期

页      码：59-62页

摘      要：基于全息补偿检验非球面的原理,提出并设计了一种二元纯相位型双计算全息图。该全息图由主全息和对准全息两部分组成,用于检测非球面的主全息位于基底的中心,而对准全息位于其边缘,用来精确定位主全息,从而消除离焦、偏心及倾斜所引入的误差。两部分全息同心是实现对主全息准确定位的前提,为此,提出了"一次曝光,两次刻蚀"的制作方法,即一次性将两部分图形在同一块掩膜版上制作出,曝光一次后,基底经两次刻蚀制作出具有两种不同相位深度的双计算全息图。最后给出了一个检测Φ140、F2抛物面镜的双计算全息设计实例,并将其检测结果与自准直检测结果比较,二者吻合良好,验证了该设计方法的正确性及制作工艺的可行性。

主 题 词：测量 凹非球面 计算全息图 湿法刻蚀 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 080402[080402] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-501X.2008.06.013

馆 藏 号：203732760...