多弧离子镀Ti-N镀膜的扩散屏障作用

作     者：王家军 叶锐曾 孙榆芳 

作者机构：清华大学北京科技大学北京有色金属研究总院 

出 版 物：《金属学报》 (Acta Metallurgica Sinica)

年 卷 期：1994年第30卷第2期

页      码：B077-B081页

摘      要：设计了３种复合镀层系，研究了多弧离子镀Ｔｉ－Ｎ镀膜对Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｏ的扩散屏障作用及Ｔｉ－Ｎ镀膜在１０００和１１００℃长期时效时的热稳定化结果表明，在１０００℃以下时效时，Ｔｉ－Ｎ镀膜稳定性良好，并可有效地阻止Ａｌ向基材扩散，可减缓、阻止Ｎｉ，Ｃｏ在ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层与基体间的互扩散行为；在１１００℃时效时，Ｔｉ－Ｎ镀膜未分解，也不与基材及ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层间发生互扩散，但组织形态由薄膜变为颗粒状，颗粒状Ｔｉ－Ｎ无法阻止Ｎｉ，Ｃｏ在ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层与基材间的互扩散．

主 题 词：包覆型涂层 扩散屏障 钛氮镀层 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

馆 藏 号：203777910...