看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >用VLSI技术制作高密度AMLCD衬底 收藏
用VLSI技术制作高密度AMLCD衬底

用VLSI技术制作高密度AMLCD衬底

作     者:秦世才 贾香鸾 吴葆刚 

作者机构:南开大学电子系美国ADS公司 

基  金:国家自然科学基金 

出 版 物:《现代显示》 (Advanced Display)

年 卷 期:1995年第2期

页      码:17-21页

摘      要:采用一种新的超大规模集成电路(VLSI)技术制作有源矩阵液晶显示器(AMLCD)衬底,用两层结构解决了象素密度与开口率之间的矛盾,并把扫描驱动与信号驱动电路集成在同一芯片上。与PDLC相结合,有望制成高分辨率超小型液晶光阀。还详细介绍了有源矩阵的结构、设计考虑和研制结果。

主 题 词:有源矩阵 液晶显示器 集成电路 VLSI 

学科分类:0810[工学-土木类] 08[工学] 081001[081001] 

馆 藏 号:203778094...

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分