大面积循环扫描投影光刻对准系统设计和分析

作     者：裴文彦 周金运 林清华 PEI Wen-yan;ZIIOU Jin-yun;LIN Qing-hua

作者机构：广东工业大学实验教学部广州510006 广东工业大学物理与光电工程学院广州510006 

基　　金：广东省自然科学基金项目(07001789) 广东省科技计划项目(2007B010400071) 

出 版 物：《半导体光电》 (Semiconductor Optoelectronics)

年 卷 期：2009年第30卷第3期

页      码：455-459页

摘      要：设计了大面积循环扫描投影光刻的高精度对准系统,由CCD传感器、图像识别软件和共焦显微镜组成的光学测量系统和对掩模和基片的相对位置作二维和角度及时修正的精密定位系统两部分组成。标记图像的二维方向扫描分别借助光刻平台的移动和振镜的高频振动来完成。理论分析了标记位矢对准、共焦成像和CCD信号相关双采样关键技术。根据掩模和基片对应位矢的夹角余弦值大小控制基片的旋转和平动,对准更方便快捷;由共焦成像系统二维响应函数的推算,针孔滤波对提高成像分辨率很重要;对CCD像元电荷包实时准确地采样,是排除噪声干扰的关键。

主 题 词：投影光刻 对准 激光共焦扫描显微镜 CCD相关双采样 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.16818/j.issn1001-5868.2009.03.035

馆 藏 号：203779423...