几种氟化物薄膜材料的光学特性

作     者：薛春荣 易葵 邵建达 范正修 XUE Chun-rong;YI Kui;SHAO Jian-da;FAN Zheng-xiu

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 常熟理工学院江苏新型功能材料实验室江苏常熟215500 中国科技大学国家同步辐射实验室安徽合肥230019 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.60678004) 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2009年第17卷第7期

页      码：1507-1512页

摘      要：为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底温度镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;在国家同步辐射真空紫外实验站测定了它们120～300nm的透射光谱曲线,用商用lambda900光谱仪测量了它们190～500nm的透射光谱曲线,两者相结合标定了透射率的准确值。用包络法和模拟退火相结合研究了它们在120～500nm的折射率和消光系数,给出了6种氟化物材料的光谱色散曲线。结果显示,3种高折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.77～1.89,而3种低折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.44～1.48;研究表明,选用折射率相差较大的高、低折射率氟化物薄膜,可在膜系设计中组成高低折射率材料对,用于设计各种实用的薄膜器件。

主 题 词：真空紫外 同步辐射 氟化物材料 光学特性 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1004-924X.2009.07.003

馆 藏 号：203779468...