Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中BCl3气体作用研究
作者机构：重庆京东方显示技术有限公司重庆400714
出 版 物：《液晶与显示》 (Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays)
年 卷 期：2019年第34卷第9期
页 码：857-861页
摘 要：随着显示技术的发展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越来越厚,布线越来越窄。目前LTPS显示技术中常规的设计为Ti/Al/Ti材料衬底使用无机膜,后续柔性OLED显示技术新设计中Ti/Al/Ti衬底开始逐渐使用有机膜(聚酰亚胺等),Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺面临的挑战越来越大。本文主要研究在常规Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中,BCl 3气体对Ti/Al/Ti侧面形态的影响以及对光刻胶刻蚀速率的影响,实验结果表明:随着BCl 3气体流量的增加,Ti/Al/Ti侧面保护膜的厚度越来越薄,对PR胶的刻蚀速率越来越小。本文研究结果便于更好地应对后续Ti/Al/Ti干法刻蚀衬底为有机膜的新工艺。
主 题 词：Ti/Al/Ti 干法刻蚀 BCl 3 侧面保护 PR胶刻蚀速度
学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502]
核心收录：
D O I：10.3788/YJYXS20193409.0857
馆 藏 号：203782009...
