四烷氧基酞菁铜(Ⅱ)旋涂膜的气敏特性

作     者：左霞 王彬 吴谊群 陈志敏 李赞 韦永德 

作者机构：哈尔滨工业大学应用化学系黑龙江哈尔滨150001 黑龙江大学化学化工与材料学院黑龙江哈尔滨150080 

基　　金：黑龙江自然科学基金(B01-07) 

出 版 物：《传感器技术》 (Journal of Transducer Technology)

年 卷 期：2004年第23卷第5期

页      码：24-28页

摘      要：设计合成了可溶性的四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜(C64H80N8O4Cu),利用旋涂技术制备了四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜旋涂膜,研究了配合物旋涂膜的红外光谱、电子吸收光谱、对NO2和乙醇蒸汽的敏感特性以及气敏机理。结果表明:可溶性的四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜可制得较理想的旋涂膜,与溶液相比较旋涂膜的电子吸收光谱明显变宽,且Q带的2个吸收峰分别红移了16nm和12nm。室温下配合物旋涂膜对较低体积分数NO2呈现出良好的气敏性,在NO2为1.0～5.0×10-6体积分数范围内表现出较好的线性关系,而薄膜对乙醇蒸汽响应的体积分数为3.0×10-5。动力学研究表明:四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜旋涂膜对气体的吸附和脱附分2个过程完成。

主 题 词：四烷氧基酞菁铜 旋涂膜 气敏特性 化学传感器 红外光谱 电子吸收光谱 

学科分类：080202[080202] 08[工学] 0802[工学-机械学] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-9787.2004.05.008

馆 藏 号：203783134...