电子束改性技术中均匀束斑与路径控制方法研究

作     者：张永和 何俊 ZHANG Yonghe;HE Jun

作者机构：兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室 

出 版 物：《真空与低温》 (Vacuum and Cryogenics)

年 卷 期：2019年第25卷第5期

页      码：303-306页

摘      要：针对通用电子束设备在材料改性过程中作用面积小、能量沉积不均匀、特殊位置可达性差等问题,设计了一种能量均匀沉积的大面积束斑波形,研制了专用电子束运动轨迹偏转控制系统。通过平板试件表面和回转体试件内外表面的改性工艺试验,验证了特征波形的能量均匀沉积和运动路径的控制效果。结果表明,采用均匀束斑和运动路径控制方法后,能够成倍提高电子束改性效率,提升束斑可达性,实现改性层厚度的均匀一致性。

主 题 词：电子束 改性技术 均匀波形 路径控制 

学科分类：0710[理学-生物科学类] 07[理学] 08[工学] 0836[0836] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1006-7086.2019.05.003

馆 藏 号：203791929...