纳米ZnS∶Cu薄膜及谐振腔的制备与特性研究

作     者：秦旭峰 茅惠兵 侯士丽 王基庆 景为平 QIN Xu-feng;MAO Hui-bing;HOU Shi-li;WANG Ji-qing;JING Wei-ping

作者机构：南通大学江苏省专用集成电路设计重点实验室南通226007 华东师范大学信息科学与技术学院上海200241 

基　　金：国家自然科学基金(No.60576059) 

出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期：2010年第39卷第2期

页      码：412-415页

摘      要：采用水浴法制备不同掺杂浓度ZnS∶Cu纳米薄膜及相应谐振腔。X射线衍射表明,该纳米薄膜具有立方相的闪锌矿结构。光致荧光测量显示,ZnS∶Cu薄膜在2.37 eV处有很强的荧光峰。荧光强度与Cu/Zn物质的量比有关,当Cu/Zn物质的量比为0.1%时,ZnS∶Cu纳米薄膜荧光强度最强。在由Al膜与ITO薄膜构成的腔长为3.6μm的ZnS∶Cu垂直谐振腔中共观察到10多个荧光干涉峰。经分析确定,该垂直谐振腔的品质因数为30.3。

主 题 词：ZnS∶Cu薄膜 光致发光 谐振腔 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

D　O　I：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2010.02.045

馆 藏 号：203795103...