光学微型化、微光学与测量技术的水平与前景—1996年斯图加特光学研讨会

作     者：大舟 

出 版 物：《光机电信息》 (Optics,Mechanics & Electronics Information)

年 卷 期：1997年第14卷第8期

页      码：25-27页

摘      要：斯图加特大学设计与加工技术系、光学与精密工具技术研究所举办的传统的光学研讨会于1996年2月21日召开。重点课题是:微型结构、近场显微术、干涉测量术和加工测量技术。主办人为工程光学研究所的Tiziani教授。与会人员约300人。Tiziani教授首先做“三维测量技术的概括”报告,特别介绍了干涉测量的技术水平和发展趋向。相位测量与三角测量方法越来越变得实用,此外,还介绍了许多革新技术,如三波长干涉测量与斜光干涉测量的结合,用于粗糙表面的单位测量。还有双波长本振干涉测量、双本振干涉测量和白光干涉测量。在这方面新的内容是在保持干涉测量分辨率的情况下,增大了单值性的范围。图1介绍了一台扫描短相干干涉仪的结构示意图。由于单值性范围的增大,这种方法还可用来测量分离的表面(如测量继电器衔铁)。

主 题 词：光学微型化 微光学 光学测量技术 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

馆 藏 号：203809464...