界面层对激光减反膜的影响研究

作     者：季一勤 刘华松 王占山 陈德应 樊荣伟 姜玉刚 洪伟 刘丹丹 吴志新 王日 Ji Yiqin;Liu Huasong;Wang Zhanshan;Chen Deying;Fan Rongwei;Jiang Yugang;Hong Wei;Liu Dandan;Wu Zhinxin;Wang Ri

作者机构：哈尔滨工业大学可调谐激光技术国防科技重点实验室黑龙江哈尔滨150001 天津市薄膜光学重点实验室天津300192 同济大学精密光学工程技术研究所上海200092 

基　　金：天津市科委项目(10JCYBJC01500) 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2011年第40卷第10期

页      码：2003-2007,2027页

摘      要：激光技术的发展对减反膜提出了超高透过率的要求,基板的表面特征在高精度减反膜的设计与制造中不可忽略。选择熔融石英为基板,Ta2O5和SiO2为高低折射率膜层材料,针对在0°入射角下工作的532 nm激光减反膜进行设计与分析,得到膜层内的电场分布。在模拟计算中将基板的表面粗糙度等效为等比例混合膜,计算分析了理想设计条件下不同厚度界面层的V型减反膜,得到透过率与界面粗糙度的数值函数关系,最后利用数值优化的方法对理想设计进行修正,得到了存在界面层的减反膜修正结果,研究结果有助于实现超高透过率短波长激光减反膜的设计与制备。

主 题 词：激光减反膜 界面层 表面粗糙度 修正设计 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1007-2276.2011.10.035

馆 藏 号：203811051...