用TiCl_3低温化学气相沉积TiN的实验研究

作     者：袁泽喜 胡传胜 谭萍 

基　　金：湖北省自然科学基金 

出 版 物：《武汉冶金科技大学学报》 (Journal of Wuhan University of Science and Technology)

年 卷 期：1997年第20卷第1期

页      码：43-48页

摘      要：运用热力学对用ＴｉＣｌ３为钛源在低温下化学气相沉积ＴｉＮ的可行性进行了论证，着重介绍了实验研究及实验结果。在所设计的ＴｉＣｌ３生成以及ＴｉＮ形成的实验装置上，通过对ＨＣｌ（ｇ）与ＮＨ３的流量和沉积总压强的调节与控制，在较低的温度（５５０℃）下，在钢基材料上获得了ＴｉＮ表面涂层。

主 题 词：金属氮化物 氮化钛 LTCVD 二氯化钛 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

馆 藏 号：203824684...