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具有金属反射膜的钨丝掩蔽两次质子轰击垂直腔面发射激光器

具有金属反射膜的钨丝掩蔽两次质子轰击垂直腔面发射激光器

作     者:杜国同 姜秀英 刘素平 刘颖 高鼎三 

作者机构:吉林大学电子工程系电子科学与技术研究所国家集成光电子联合实验室吉林大学实验区 

出 版 物:《Journal of Semiconductors》 (半导体学报(英文版))

年 卷 期:1995年第16卷第5期

页      码:350-353页

摘      要:本文报道了一种工艺较简单的新结构垂直腔面发射激光器的设计与初步研制结果.所用的外延片是由分子束外延生长的,下镜面是由对Al0.1Ga0.9As/AlAs异质膜构成的分布布拉格反射器,上镜面是由对Al0.1Ga0.9As/AlAs异质膜构成的分布布拉格反射器及半反射半透明的金属膜组合构成.器件的电流注入区由钨丝掩蔽两次质子轰击形成.器件初步研制已实现了室温脉冲激射,阈值最低320mA,最大峰值功率可达9mW.

主 题 词:VC-SELD 激光器 钨丝 质子轰击 

学科分类:080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录:

馆 藏 号:203827764...

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