14nm工艺即将到来Intel Broadwell技术前瞻

作     者：黄博文 

出 版 物：《微型计算机》 (MicroComputer)

年 卷 期：2014年第34卷第28期

页      码：104-108页

摘      要：按照intel的Tick-Tock战略，2014年推出的BroadwelI将主要侧重于工艺进步，微结构上不会做出什么大幅度改动，只会做出一些小幅度的调优。BroadwelI的微结构来自于它的前代Haswell，Haswell的设计重点是性能功耗比，IPC的绝对涨幅并不明显，在Broadwel身上，这种趋势也延续了下来。所以关注单核心微结构的读者们恐怕要失望了，Broadwell大致上只是Haswell的14nm工艺迁移版，IPC的涨幅估计比5％高不了太多，主要的性能变化将来自于电路层以下特别是工艺层的改良。据报道lntel并不打算降低BroadwelI产品线的芯片频率，Broadwell大概只会在同频率上性能略微超出Haswell—点，但是同时功耗应该会有一个比较可观的降幅。

主 题 词：工艺进步 Intel 技术 性能变化 intel 微结构 IPC 同频率 

学科分类：08[工学] 081201[081201] 0812[工学-测绘类] 

馆 藏 号：203828032...