实际高数值孔径光刻系统的偏振分析

作     者：罗红妹 岑兆丰 李晓彤 张鲁薇 张跃骞 

作者机构：浙江大学光电信息工程学系浙江杭州310027 

基　　金：应用光学国家重点实验室开放基金(Y1Q03FQK09) 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2013年第33卷第11期

页      码：205-212页

摘      要：在光学系统偏振传输理论的基础上,对一高数值孔径(NA)的透射式光刻系统进行了偏振分析,分析中考虑了系统的实际特性——现有工艺水平可制备的增透膜、薄膜和基底材料的吸收作用以及偏振照明,以增加分析结果的可靠性。通过计算系统各光学界面的透射率、反射率、吸收率及二次衰减值等偏振参数,得到镀膜、吸收作用以及不同偏振照明对系统传输性能和成像性能的影响。结果表明镀膜能有效提高该光刻系统的性能及稳定性,并可以将不同偏振照明对该系统性能的影响减小至可忽略的水平;同时,显著的基底吸收作用是该系统能量损失的主因,但吸收引入的偏振作用相对总体而言较小。

主 题 词：光学设计 投影光刻 偏振分析 高数值孔径 实际系统 增透膜 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/aos201333.1122002

馆 藏 号：203833047...