YVO₄晶体的负折射特性分析与应用

作     者：陈清明 窦子凡 

作者机构：武汉理工大学理学院湖北 武汉 

出 版 物：《应用物理》 (Applied Physics)

年 卷 期：2019年第9卷第12期

页      码：504-510页

摘      要：论文研究YVO4中负折射的相关定量细节,以利用该结果设计新型晶体波导结构。利用e光在单轴晶体表面的折射公式,得到入射角、折射角、光轴取向角变化对负折射现象的影响:折射角随入射角增大而增大,随光轴取向角的增大先减小后增大再减小,真空与YVO4界面最大负折射角的最佳光轴取向角为46.43?。单轴晶体负折射可用于隐身技术中,利用两块光轴对称取向的YVO4孪晶结构可引导e光绕行一定范围或偏折一定的角度。定量的负折射实现条件、入射角及折射角范围,以及孪晶结构的光线偏折现象对YVO4晶体都有定量指导意义。

主 题 词：负折射 YVO₄晶体 光轴 晶体波导 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.12677/APP.2019.912062

馆 藏 号：203835272...