一种新型的透明薄膜的研究

作     者：邓云 曾渊 张骅 许家栋 DENG Yun;ZENG Yuan;ZHANG Hua;XU Jia-dong

作者机构：西北工业大学电子信息学院陕西西安710072 

出 版 物：《微电子学与计算机》 (Microelectronics & Computer)

年 卷 期：2006年第23卷第5期

页      码：38-41页

摘      要：应用的需求要求研制具有电磁屏蔽特性的透明薄膜,客观条件的限制使得这种薄膜不仅需要足够的透光性,还要具备相当的屏蔽效能。在比较现有技术的基础上,着重研究了称为“透明金属”的金属-电介质多层结构薄膜,在电磁屏蔽和光学投射两方面进行了分析设计。纳米技术的采用对制备工艺提出了更高的要求,双离子束溅射法具有优良的特性获得广泛采用。文章最后总结了最近取得的研究进展,提出以后的研究方向。

主 题 词：电磁屏蔽 透明薄膜 溅射 纳米技术 

学科分类：080804[080804] 080805[080805] 0808[工学-自动化类] 08[工学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-7180.2006.05.012

馆 藏 号：203850011...