瞬态闭锁试验在0.13μm大规模集成电路中引起的潜在损伤

作     者：杜川华 赵洪超 邓燕 DU Chuanhua;ZHAO Hongchao;DENG Yan

作者机构：中国工程物理研究院电子工程研究所 

基　　金：国家自然科学基金重点项目资助(11835006) 

出 版 物：《原子能科学技术》 (Atomic Energy Science and Technology)

年 卷 期：2019年第53卷第12期

页      码：2498-2503页

摘      要：瞬态剂量率辐射试验会引起集成电路发生损伤或失效,其原因至少有两种:闭锁大电流引起的电路内部金属互连熔融;累积电离总剂量引起的氧化层电荷造成阈值电压偏移。本文以一种0.13μm体硅CMOS处理器为对象,研究了瞬态剂量率和稳态电离总剂量辐射效应规律。结果表明:瞬态剂量率闭锁效应对处理器造成了显著的潜在损伤,导致其总剂量失效阈值从1030 Gy(Si)降低至600 Gy(Si)。研究结论对于大规模集成电路的可靠性评估和指导辐射加固设计有重要参考意义。

主 题 词：处理器 剂量率 电离总剂量 闭锁 潜在损伤 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.7538/yzk.2018.youxian.0886

馆 藏 号：203858452...