用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计

作     者：胡中华 杨宝喜 朱菁 肖艳芬 曾爱军 黄惠杰 

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 中国科学院大学北京100049 

基　　金：国家科技重大专项(2011ZX02402) 国家国际科技合作项目(2011DFR10010)资助课题 

出 版 物：《中国激光》 (Chinese Journal of Lasers)

年 卷 期：2013年第40卷第6期

页      码：308-312页

摘      要：投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DOE进行了具体的设计。仿真分析了采用常规重复分区方法和混合分区方法的两类设计结果,并对它们的远场光强分布进行了详细的比较分析。在相同的局部优化算法条件下,相对于常规重复分区方法的设计结果而言,混合分区方法设计的DOE可使传统照明模式的非均匀性从26.45%下降到1.12%,二极照明模式的非均匀性从19.93%下降到5.45%,四极照明模式的非均匀性从17.73%下降到3.54%。混合分区设计方法无需改变局部优化算法,在保持高衍射效率的同时能大幅度提高光瞳均匀性。

主 题 词：光学设计 衍射光学元件 混合分区设计 迭代傅里叶变换 光瞳整形 投影光刻 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/cjl201340.0616001

馆 藏 号：203864137...