硫脲对BH_4^-在铜电极上电化学氧化行为的影响

作     者：崔文科 孙彦平 武爱莲 CUI Wen-ke;SUN Yan-ping;WU Ai-lian

作者机构：太原理工大学洁净化工研究所山西太原030024 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(20276054) 

出 版 物：《太原理工大学学报》 (Journal of Taiyuan University of Technology)

年 卷 期：2007年第38卷第6期

页      码：499-502页

摘      要：使用循环伏安法、电化学交流阻抗法研究了铜电极上BH4-在不同硫脲浓度时的电化学氧化行为。实验结果表明在扫描速率40 mV/s时,硫脲存在时BH4-氧化峰比没有硫脲存在时明显增大;根据DBFC电池特征设计出等效电路(R(Q(RW))),对交流阻抗实验数据进行了拟合,结果表明,该等效电路与实际测量结果基本一致,具有较高的精确性;循环伏安和交流阻抗实验均表明,适当的硫脲可抑制DBFC阳极的析氢副反应。

主 题 词：硼氢化物 燃料电池 循环伏安 电化学阻抗谱 

学科分类：0808[工学-自动化类] 08[工学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1007-9432.2007.06.009

馆 藏 号：203871013...