磁流变-化学机械复合抛光装置设计

作     者：祝江停 阎秋生 高伟强 

作者机构：广东工业大学机电工程学院广东广州510006 

基　　金：国家自然科学基金项目(编号:50875050和U1034006) 广东省自然科学基金重点项目(编号:9251009001000009) 

出 版 物：《机电工程技术》 (Mechanical & Electrical Engineering Technology)

年 卷 期：2012年第41卷第10期

页      码：84-87页

摘      要：针对SiC晶片外延膜生长需达到原子级超光滑表面的要求以及加工效率低、表面精度差的问题,提出了一套磁流变-化学机械精密抛光装置,该装置利用软件平台对抛光盘和工件运动精确控制,并具有温度、转速等参数微调及显示功能。对装置的工作原理、结构进行了介绍,并在该装置上进行了工艺试验,取得较高的加工效率和光滑无损伤的加工表面。

主 题 词：化学机械抛光 磁流变抛光 复合抛光 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0802[工学-机械学] 080201[080201] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1009-9492.2012.10.025

馆 藏 号：203873212...