等离子体电解氧化膜的工艺优化及耐腐蚀性能评价

作     者：王丽 陈砺 王红林 严宗诚 彭家志 

作者机构：华南理工大学化学与化工学院广东省绿色化学产品技术重点实验室广州510640 

出 版 物：《腐蚀与防护》 (Corrosion & Protection)

年 卷 期：2009年第30卷第6期

页      码：388-391页

摘      要：对镁合金等离子体电解氧化膜的表面制备工艺进行了研究。采用正交设计法优化实验方案,对最佳工艺条件下制备的氧化膜的微观形貌、相组成进行了研究;采用点滴腐蚀、动电位极化曲线、循环阳极极化曲线、电化学阻抗谱及浸泡腐蚀试验对AZ31镁合金及等离子体电解氧化膜的耐腐蚀性能进行了综合评价。结果表明,制备的等离子体电解氧化膜的最佳工艺为KOH 4 g/L、硅酸盐20 g/L、氧化电压300 V、氧化时间30 min;氧化膜主要成分为MgSiO3和Mg2SiO4,经过等离子体电解氧化之后其显微硬度、耐点滴腐蚀、耐均匀腐蚀和耐点腐蚀性能较AZ31镁合金均有较大提高。

主 题 词：等离子体电解氧化 镁合金 动电位极化 电化学阻抗谱 

学科分类：080503[080503] 0817[工学-轻工类] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

馆 藏 号：203894354...