一种氧离子注入的均匀性控制系统设计

作     者：郭忠君 贾京英 刘咸成 

作者机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所长沙410111 

出 版 物：《自动化与仪器仪表》 (Automation & Instrumentation)

年 卷 期：2012年第4期

页      码：74-76页

摘      要：在SIMOX工艺制作过程中,氧离子注入的均匀性对SOI材料表面硅厚度的均匀性和SiO2埋层厚度的均匀性起着直接的决定性的作用。文章介绍了一种氧离子注入均匀性控制系统的工作原理和设计方案,该方案应用于我所研制的强流氧离子注入机,取得了理想的效果。

主 题 词：离子注入 均匀性控制 SOI SIMOX 

学科分类：0711[理学-心理学类] 07[理学] 08[工学] 081101[081101] 0811[工学-水利类] 071102[071102] 081103[081103] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-9227.2012.04.032

馆 藏 号：203896632...