磁流变抛光流场瞬变过程响应时间

作     者：杨航 宋书飘 张帅 甘欢 黄文 何建国 Yang Hang;Song Shupiao;Zhang Shuai;Gan Huan;Huang Wen;He Jianguo

作者机构：遵义师范学院工学院贵州遵义563006 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所四川绵阳621900 中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室四川成都610200 

基　　金：国家“高档数控机床与基础制造装备”科技重大专项“巨型激光装置光学元件超精密制造系统示范工程”课题(2017ZX04022001) 教育部重点实验室开放基金课题(黔教合KY字385) 贵州省科技计划项目(黔科合平台人才5784) 贵州省教育厅青年科技人才成长项目(黔教合KY字249) 

出 版 物：《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)

年 卷 期：2020年第57卷第3期

页      码：203-209页

摘      要：提出一种磁流变抛光瞬变过程多相颗粒流模型,获得了瞬变过程在宏观、介观、微观三个层次的力学关联,从而建立了基于三向在位力学信号的瞬变过程表征方法,在位、同步、动态地测定了磁流变抛光的三向力学信号,解决了毫米尺度空间下磁流变抛光液-固界面的在位测量问题。采用屈服强度为220kPa、宾汉黏度为0.07Pa·s的高去除率抛光液对φ50mm的BK7超精密平面元件进行磁流变抛光实验,测量得到磁流变抛光流场瞬变响应时间为700ms。

主 题 词：光学设计 强激光系统 超精密光学加工 磁流变抛光(MRF) 瞬变过程 在位测量 响应时间 

学科分类：0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 080202[080202] 08[工学] 0802[工学-机械学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/LOP57.032201

馆 藏 号：203898166...