亿合公司推出新型200 mm光罩对准曝光机

作     者：章从福 

出 版 物：《半导体信息》 (Semiconductor Information)

年 卷 期：2005年第2期

页      码：38-39页

摘      要：EVG(亿合)科技股份有限公司推出的新型200 mm光罩对准曝光机 EVG6200,对先进封装、微机电及光电产业各种不同的需求,提出了最具价格竞争力的解决方案。EVG6200特殊设计可处理厚光阻、弯曲及易碎的晶圆。

主 题 词：光电产业 先进封装 光阻 mm 价格竞争力 均匀度 自动功能 

学科分类：080903[080903] 0202[经济学-财政学类] 02[经济学] 020205[020205] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

馆 藏 号：203905374...