提高微细图形光刻分辨力的相移滤波技术研究

作     者：陈旭南 石建平 康西巧 罗先刚 秦涛 

作者机构：中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209 

基　　金：国家自然科学基金 (项目编号 :6 9876 0 41)资助项目 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2003年第32卷第3期

页      码：323-326页

摘      要：详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论 ,给出了理论模型 ,进行了模拟计算 .对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果 .研究表明 ,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和增大焦深 ,同时能提高光能利用率 ,有利于提高光刻生产率 ,是一种有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术 .

主 题 词：相移滤波 投影成像光刻系统 分辨力和焦深 光能利用率 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203905817...