真空磁场热处理温度对不同厚度的Ni88Cu12薄膜畴结构及磁性的影响

作     者：刘文姝 高润亮 冯红梅 刘悦悦 黄怡 王建波 刘青芳 Liu Wen-Shu;Gao Run-Liang;Feng Hong-Mei;Liu Yue-Yue;Huang Yi;Wang Jian-Bo;Liu Qing-Fang

作者机构：兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室兰州730000 兰州大学特殊功能材料与结构设计教育部重点实验室兰州730000 

基　　金：国家自然科学基金(批准号:51771086)资助的课题 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2020年第69卷第9期

页      码：238-243页

摘      要：利用射频磁控共溅射方法,在Si衬底上制备了Ni88Cu12薄膜,并且研究了膜厚以及真空磁场热处理温度对畴结构和磁性的影响. X射线衍射结果表明热处理后的薄膜晶粒长大,扫描电子显微镜结果发现不同热处理温度下薄膜表现出不同的形貌特征.热处理前后的薄膜面内归一化磁滞回线结果显示,经过热处理的Ni88Cu12薄膜条纹畴形成的临界厚度降低,未热处理的Ni88Cu12薄膜在膜厚为210 nm时出现条纹畴结构,而经过300℃热处理的Ni88Cu12薄膜在膜厚为105 nm就出现了条纹畴结构.高频磁谱的结果表明,随着热处理温度的增加, Ni88Cu12薄膜的共振峰会有小范围的移动.

主 题 词：条纹畴 Ni88Cu12 热处理 

学科分类：081702[081702] 07[理学] 070205[070205] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0704[理学-天文学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.7498/aps.69.20191942

馆 藏 号：203907747...