薄膜理想台阶的制备方法研究

作     者：付文博 梁建华 王维笃 周晓松 杨本福 程贵均 

作者机构：中国工程物理研究院核物理与化学研究所绵阳621900 

基　　金：中国工程物理研究院科技发展基金资助项目(2010A0301011) 

出 版 物：《表面技术》 (Surface Technology)

年 卷 期：2013年第42卷第6期

页      码：113-118页

摘      要：目的研究台阶的形貌对台阶仪测试的影响,准确测试薄膜的厚度。方法分析制备台阶中存在的问题,针对这些问题设计了中轴线位置带掩膜条的掩膜板,并采用该新型掩膜板,在不同衬底上制备台阶,用台阶仪对薄膜的厚度进行测定。结果在薄膜中轴线附近做出的台阶,坡度陡峭,上下表面清晰。Mo衬底上制备出的薄膜厚度重复性较好;单晶硅衬底上制备的薄膜表面粗糙度较大;石英衬底上制备薄膜形成的台阶上下表面均较为平滑。结论使用新型掩膜板在石英衬底上制备出理想台阶,可较为准确地测试薄膜的厚度。

主 题 词：薄膜 膜厚 边缘效应 理想台阶 粗糙度 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2013.06.001

馆 藏 号：203919842...