新型减反膜的设计与制备

作     者：李芳 林永昌 刘育梁 

作者机构：中国科学院半导体研究所集成光学国家重点实验室北京100083 北京理工大学光电工程系北京100081 

出 版 物：《光学仪器》 (Optical Instruments)

年 卷 期：2004年第26卷第2期

页      码：115-117页

摘      要：根据近年来实际应用中对减反膜的新的需求和指标要求,利用光学薄膜设计软件进行模拟和理论分析,采用常规的薄膜工艺和设备进行大量实验,设计并制备出三种新型的减反膜:含金属膜的减反膜(包括窄带金属减反膜,宽带金属减反膜,减反防静电抗电磁辐射膜),超低反射率减反膜和大角度减反膜,满足了实际器件的应用要求。

主 题 词：光学薄膜 减反膜 薄膜工艺 金属膜 薄膜设计 薄膜光学 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1005-5630.2004.02.025

馆 藏 号：203925326...