i－line光刻高均匀照明系统光能分布的计算模拟

作     者：周崇喜 林大键 

作者机构：中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 

基　　金：中国科学院"八.五"重大项目 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：1996年第23卷第2期

页      码：1-6页

摘      要：叙述了ｉ－ｌｉｎｅ光刻高均匀照明系统的均匀照明原理，以及其具有特殊面形（非球面）、特殊结构（非共轴）、超光学表面（由多个非共轴光学表面组成）的光学系统的光能分布计算模拟的原理、方法。作为例子，用所编写的程序计算模拟了我们近来设计的一曝光系统几个重要光学表面上具有权重的点列图和光能分布曲线。

主 题 词：分步重复光刻机 照明光学 光能分布 计算机模拟 

学科分类：080903[080903] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203932035...