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双端口2.5μm硅栅CMOS静态RAM(L68HC34)的工艺研究

双端口2.5μm硅栅CMOS静态RAM(L68HC34)的工艺研究

作     者:郭玉璞 

作者机构:电子工业部东北微电子研究所沈阳110032 

出 版 物:《微处理机》 (Microprocessors)

年 卷 期:1997年第18卷第2期

页      码:13-16页

摘      要:介绍了双端口2.5μm硅栅CMOS静态RAM(L68HC34)的研制过程、工艺设计和工艺控制;分析了控制VT及降低R多的各种方法;并阐述了对发展IC的重要意义。

主 题 词:SRAM 单晶硅 多晶硅 硅栅 掺杂 IC CMOS 

学科分类:080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

馆 藏 号:203932482...

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