不同光学印模法对全瓷冠边缘和内部适合性影响的实验研究

作     者：谭发兵 王璐 付钢 吴树洪 金萍 TAN Fa-bing;WANG Lu;FU Gang;WU Shu-hong;JIN Ping

作者机构：重庆医科大学附属口腔医院修复科 晶美义齿制作有限公司重庆400015 

出 版 物：《华西口腔医学杂志》 (West China Journal of Stomatology)

年 卷 期：2010年第28卷第1期

页      码：29-33页

摘      要：目的研究Cerec3D/Inlab MC XL系统不同光学印模法对Cerec Blocs全瓷冠边缘和内部适合性的影响。方法制备1个右侧下颌第一磨牙全冠预备体模型,复制32个石膏代型。采用随机抽样法,16个代型用于冠粘接,16个代型用于光学印模采集,其中直接法和间接法各选取8个,分别制作8个Cerec Blocs全瓷冠。采用修正美国公共卫生服务(USPHS)标准和扫描电镜(SEM)法评价冠的适合性,SAS9.1软件对实验数据进行统计分析。结果修正USPHS法显示87.5%的边缘测试点临床可接受,直接法与间接法边缘适合性比较差异无统计学意义(P>0.05);SEM法显示所有冠的边缘测试点均小于120μm,直接法与间接法边缘和内部适合性比较差异均无统计学意义(P>0.05),但直接法在近中、颊面、舌面、面的适合性优于间接法(P<0.05);直接法远中轴面适合性较差,与近中轴面比较差异有统计学意义(P<0.01)。结论光学印模法对Cerec Blocs冠边缘适合性无影响,但对内部适合性有一定影响,全瓷冠边缘适合性均在临床可接受范围内。

主 题 词：适合性 光学印模 计算机辅助设计与制作 全瓷冠 

学科分类：1003[医学-口腔医学类] 1002[医学-临床医学类] 100302[100302] 10[医学] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-1182.2010.01.008

馆 藏 号：203948785...