曝光机双玻璃晒架及其真空系统的设计

作     者：吴琼 WU Qiong

作者机构：西南科技大学信息工程学院绵阳四川621010 

出 版 物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)

年 卷 期：2006年第35卷第1期

页      码：52-55页

摘      要：曝光机是图形转移中的重要设备。传统的迈拉晒架存在着需要赶气、效率低等缺点,已不能满足现代生产的需要。现今双玻璃晒架已在国外中、高档曝光机上普遍采用,但在国内各厂商还不具备生产能力。设计了散射光曝光机的双玻璃晒架系统,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题,在实验基础上得出了当膨胀密封圈气压为0.03MPa,腔体真空度和底片吸附分别为40kPa和80kPa时,该晒架系统的真空效果较好。

主 题 词：曝光机 图形转移 双玻璃晒架 真空度 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1004-4507.2006.01.010

馆 藏 号：203955590...